CIOE 2025完美收官！瑞典Ionautics携HiPIMS系列高端镀膜设备及创新技术，重塑薄膜沉积应用新场景

本届展会以 “光电科技赋能产业革新” 为主题，聚焦全球光电产业趋势与升级路径，全面覆盖信息通信、精密光学、激光及智能制造、AR&VR、智能传感、新型显示及光电子创新等重要领域，集中呈现从核心材料、关键设备到系统方案的全产业链创新技术，为光电产业及其下游应用持续注入新动能。展会期间，Ionautics 的创新产品与技术吸引了众多业内关注。

图片来源：CIOE中国光博会

深耕PVD领域，创新驱动发展

Ionautics自2010年成立以来，始终专注于PVD领域的创新与研究，以创新驱动、精密工业以及可持续理念，为全球工业与科研用户提供专业技术支持和解决方案。经过多年技术积累，公司已形成以 HiPIMS(高功率脉冲磁控溅射)技术为核心，同步深耕 CVD(化学气相沉积)与纳米粒子合成技术的研发体系。

HiPIMS是一种先进的薄膜沉积工艺，通过高功率脉冲等离子体放电实现溅射材料的高离化率，进而提升薄膜沉积过程的控制精度与材料性能。该技术目前已广泛应用于高性能薄膜制备领域，包括定制化涂层、类金刚石碳(DLC)膜、透明导电氧化物(如 ITO)、阻隔涂层、光学与电气功能涂层，以及复杂三维结构的均匀覆盖。Ionautics基于该技术开发的 HiPSTER系列设备，具备高精度脉冲控制与工艺稳定性，支持多种脉冲模式，在提升薄膜致密性、硬度、导电性和覆盖一致性方面表现突出，已为半导体、光学、能源和精密制造等行业提供稳定的涂层解决方案。

多元化产品展示，满足多场景需求

Ionautics HiPSTER 系列的多个型号设备，包括 HiPSTER 1、HiPSTER 6 Bipolar、HiPSTER 10 及 HiPSTER 25 等，覆盖从科研到工业级应用的多场景高端镀膜需求。其中，HiPSTER 1 作为一款高性能双极型高功率脉冲磁控溅射电源装置，以其高度稳定和可重复的工艺，能够保障涂层质量的一致与可靠，广泛适用于 DLC、ITO、阻隔涂层等多种高端应用场景。

HiPSTER 25则面向工业级薄膜沉积需求，采用碳化硅(SiC)功率器件，支持高达150kHz的脉冲频率，兼具高效能转换与工艺稳定性。作为新一代的高功率脉冲磁控溅射电源，其先进的晶体管技术和双极运行优势，使得离子加速无需衬底偏压即可实现，显著提升了反应性HiPIMS工艺中的沉积速率与膜层均匀性，广泛应用于航空航天、医疗器械和汽车制造等对涂层质量要求极高的领域。

深度交流，助力光电产业升级

展会期间，Ionautics展位现场交流踊跃，公司技术人员与参观者深入探讨了光电涂层技术的最新进展与应用前景，并分享了HiPIMS等技术在工业应用中的成功案例和解决方案。通过此次展会，Ionautics不仅展示了其技术实力与产品优势，也与众多行业伙伴建立了紧密联系，为未来的合作奠定了坚实基础。

随着全球光电产业的持续发展，技术创新正日益成为推动行业升级的核心驱动力。CIOE 2025 虽已圆满落幕，但Ionautics在光电涂层技术领域的探索与创新仍在不断推进。未来，Ionautics将进一步深化技术研发与跨行业合作，针对中国客户需求提供定制化服务，为中国及全球市场提供更高效、稳定、绿色的薄膜沉积解决方案，助力光电产业迈向精密化、功能化、可持续化新阶段。

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