优化创新环境和营商环境 我国将持续加强知识产权保护

国家知识产权局局长申长雨2日在杭州举行的第十届中国知识产权年会上表示，我国将继续坚定不移实施严格的知识产权保护制度，持续营造良好的创新环境和营商环境。

　　申长雨表示，我国将实施更加严格的商标侵权惩罚性赔偿制度，加大对商标恶意注册和囤积行为的打击力度；同时，加快推进专利法的修改，建立侵权惩罚性赔偿制度和药品专利保护期补偿制度，延长外观设计专利保护期，更好地保护专利权。

　　在审查业务层面，我国将持续提升知识产权审查质量和审查效率，提高专利、商标授权的及时性和权利的稳定性，更好地满足社会需求。

　　近年来，我国知识产权事业发展驶入快车道，知识产权创造质量、保护效果、运用效益和国际影响力不断提升：专利、商标年申请量稳居世界首位；知识产权保护社会满意度由2012年的63.69分提高到2018年的76.88分；在世界知识产权组织发布的《2019全球创新指数报告》中，中国排名第14位，位居中等收入经济体之首。

　　“实行严格的知识产权保护制度，不仅是我们履行国际义务的需要，更是建设创新型国家、实现自身发展的需要，是中国政府一以贯之的原则立场和既定方针。”申长雨说。

　　与此同时，我国将着眼国际，更大力度加强知识产权保护国际合作，加快构建多边、周边、小多边、双边“四边联动、协调推进”的知识产权国际合作新格局。

　　据介绍，此届年会是首次由中国专利信息年会和中国专利年会升级为中国知识产权年会，涵盖了专利、商标、地理标志等多种知识产权，以及运营、服务、维权、立法、司法等多个方面的内容。同期还将举办专利信息服务和产品展览、商标展和以“地大物博，标新创异”为主题的中国地理标志展。（记者 张泉）

　　转自：新华社