佳能发售FPD曝光设备新品“MPAsp-H1003H”

佳能将于2022年7月下旬发售FPD(Flat Panel Display)曝光设备新品“MPAsp-H1003H”。作为支持第8代玻璃基板尺寸*1的FPD曝光设备新产品，“MPAsp-H1003H”拥有1.5μm*2(L/S*3)的分辨率和±0.35μm的套合精度。

FPD曝光设备“MPAsp-H1003H”

近年来，随着远程办公需求的激增与在线教育的迅速普及，笔记本电脑、平板电脑等IT设备所用显示器的需求也在持续增长。此外，由于电动汽车的普及与自动驾驶技术的不断进步，更轻薄、高清优势的车载显示器预计也将迎来市场需求的进一步增长。

虽然在第6代玻璃基板*4上目前已经实现这类高清显示器面板的量产。从一片玻璃能够生产出更多显示面板的观点出发，第8代玻璃基板的市场需求也在不断增加。本次发售的FPD曝光设备“MPAsp-H1003H”支持了第8代玻璃基板，同时兼顾1.5μm的分辨率和±0.35μm的套合精度，有助于提高应用在IT设备显示器上的面板的生产效率。

第8代玻璃基板上实现1.5μm高分辨率

本次发售的新产品沿用了针对第8代玻璃基板研发的FPD曝光设备“MPAsp-H1003T”(2018年10月推出)所搭载的投影光学系统，可实现对65英寸面板的一次曝光。此外，新产品还搭载了第6代玻璃基板的曝光设备“MPAsp-E813H”(2014年9月推出)所使用的超分辨技术*5，该技术经验证，可以实现1.5μm的高分辨率。在多种技术加持下，新产品既可以满足IT显示器用面板的高分辨率需求，又可以实现大型显示器所需的最大65英寸无拼接式面板的制造。

兼顾高生产性与高套合精度

通过对趋于成熟的高速载台技术的升级和改进，并不断提高了玻璃基板载台的性能，本次发售的FPD曝光设备“MPAsp-H1003H”与上一代产品“MPA sp-H1003T”相比，实现生产效率约20%的提升。此外，通过结合“MPAsp-E813H”中经实绩验证的定位方式和倍率校正机构，新产品可实现±0.35μm的套合精度，与上一代产品“MPAsp-H1003T”相比提高了约20%。

增强各类制造工序的工艺对应能力

新产品配备了包含超分辨率技术照明模式的切换构件和稳定曝光线宽的自动曝光狭缝调整(SIC)构件，强化了多样化制造工序的工艺对应能力，提供了更稳定的制造质量。

*1尺寸2,200×2,500mm的玻璃基板，目前主要用于电视显示器的面板制造。

*2 1微米是1米的百万分之一(=千分之一毫米)。

*3 Line and Space和缩写。Line和Space均匀分布的图案。

*4尺寸1,500×1,850mm的玻璃基板，用于制造以智能手机为代表的中小型显示器面板。

*5控制光的相位和强度以提高曝光装置分辨率的技术。

**为方便读者理解，本文中佳能可指代：佳能光学设备(上海)有限公司，佳能(中国)有限公司，佳能股份有限公司，佳能品牌等

主要优点：

在第8代玻璃基板上实现1.5μm的高分辨率

与第8代玻璃基板的前代曝光设备“MPA sp-H1003T”的2.0μm相比，通过采用第6代玻璃基板曝光设备“MPA sp-E813H”中久经考验的超分辨率技术，新产品更进一步实现了1.5μm的高分辨率的曝光。

新产品还沿用了第8代玻璃基板的曝光设备“MPA sp-H1003T”的广曝光视角，实现对65英寸面板的一次曝光。

兼顾高生产率和高套合精度

与“MPA sp-H1003T”相比，通过改进高速载台技术，提高玻璃基板载台的性能，新产品的生产效率提高了约20%。

新产品搭载了曝光设备“MPA sp-E813H”中经实绩验证的倍率校正机构。对于在制造工序中形成多层时产生的基板形变，通过高精度校正驱动来进行准确地套合曝光。

采用在曝光设备“MPA sp-E813H”中经实绩验证的定位方式，新产品通过对每块面板进行多点同时测量，在不降低生产效率的情况下有效提高测量精度，实现±0.35μm的套合精度。

增强各类制造工序的工艺对应能力

新产品的照明模式可以根据需要曝光的图案进行切换，从而适配各类制造工序的曝光。通过光学元件的不同组合，可以从适合重复类图案的“Annular模式”、适合孤立类图案的“Conventional 2模式”和适合需要高照度的图案的“Conventional 3模式”中进行选择。

在形成圆弧光的机构中，新产品配备有曝光狭缝自动调整机构(SIC：Slit Illuminance Control)。通过自动控制光线通过的狭缝宽度，可以改变曝光光线的强度分布，从而实现稳定的曝光线宽。

关于规格

关于产品规格的详细信息，请参阅佳能主页。

关于佳能FPD曝光设备的工作机制

佳能的FPD曝光设备采用镜面投影方式。镜面投影单元由大凹面镜、小凸面镜和梯形镜组成。通过将光照射在单元上方的光掩模上，光掩模上的电路图案就可以在经过5次反射后准确地转印在玻璃基板上。约1μm(1mm的千分之一)的精细电路图案转印到大型玻璃基板上时，凹面镜特别关键。目前只有兼具尖端光学技术和生产技术的佳能才能研发生产直径约1.5米的大型凹面镜。

佳能的曝光方式在光学上具有完美对称的结构，优点是在原理上不会产生因斜射光引起的彗形像差(渗光)，也不会因使用镜头的折射光学系统引起光的波长差异进而导致色差(色偏)。在圆弧形的范围内有着最佳成像特性，再通过扫描该圆弧形的曝光区域即可实现大面积高分辨率性能。