光掩膜是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。光掩膜主要由两部分组成：基板和不透光材料。光掩膜广泛应用于集成电路、平板显示（包括 LCD、LED、OLED）、印刷电路板等领域，应用较为广泛。

光掩膜基板在光刻工艺中的应用示例

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光掩膜产业链

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　　随着手机、电脑、液晶电视等市场需求的增长，以及穿戴式产品、智能家居等新型市场的兴起，全球 LCD 面板需求也快速增长。根据统计，全球 TFT-LCD 需求 2014 年已达到 1.53 亿平方米，预计 2018 年将达到近 2 亿平方米。

　　同时，在国家政策的扶持下，我国 TFT-LCD 行业快速发展，2016 年大陆面板厂商出货量达到 0.77 亿片，占据额全球的 30%的份额，全球第二。 根据数据显示，2016 年我国光掩膜版市场规模为 59.5 亿元，假设其材料成本占比为30% 并考虑整体市场规模的增长， 则我国光掩膜基板的市场规模 超过 20 亿元。在合成石英玻璃材料制备方面，公司已具备生产 G8 代大尺寸、高精度 TFT-LCD光掩膜基板技术能力。在我国 TFT-LCD 全球全球份额持续增长，国产合成石英玻璃材料竞争优势进一步提升的情况下，光掩膜基板业务有望快速成长，成为新的业绩增长点。

全球 LCD 面板需求面积及增速

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我国光掩膜市场规模及增速

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